氨水可用以處理半導體制程中所產生的氨水，并產生氨氣及水溶液，藉此可將氨氣回收再利用，而處理過程中所產生的水溶液則符合環(huán)保法規(guī)的排放標準，為此不僅可降低半導體制程的成本，亦可降低排放氣體對環(huán)境所造成的污染。
　　提出了一種氨水處理裝置，包括多個層迭設置的板槽，并在各個板槽之間形成動空間。此外板槽的上表面具有一容置槽，可用以容納由液體輸入端進入的氨水，其中容置槽內的氨水受熱后，部分的水氣及氨氣會由氨水排出，此外排出的水氣及氨氣可進一步加熱上方的板槽及氨水。
　　提出了一種氨水處理裝置，主要于一外殼體內設置多個層迭設置的板槽，并通過板槽將外殼體內的容置空間區(qū)隔成動空間。外殼體的上方設置至少一液體輸入端及至少一氣體輸出端，而外殼體的下方則設置至少一液體輸出端。由液體輸入端進入的氨水會經由上方的板槽流到下方的板槽，而后再流到加熱單元。隨著氨水逐漸靠近加熱單元，氨水的溫度將會逐漸上升，使得氨水內的氨氣排出，而靠近加熱單元的氨水的氨濃度很低，并符合環(huán)保法規(guī)的排放標準，可由液體輸出端排出。
　　多個板槽，以層迭的方式設置，該板槽包括一板體及至少一側板，其中該板體包括一上表面及一下表面，而該側板設置于該板體的該上表面，使得該側板與該板體的該上表面之間形成至少一容置槽;一外殼體，包括多個殼板、至少一液體輸入端、至少一液體輸出端及至少一氣體輸出端，該多個殼板之間具有一容置空間，該層迭設置的板槽設置于該容置空間內，并將該容置空間區(qū)隔成為動空間，其中該液體輸入端、該液體輸出端及該氣體輸出端流體連通該流動空間;及一加熱單元，位于層迭設置的該多個板槽的下方。
　　多個板槽，以層迭的方式設置，該板槽包括一板體及至少一側板，其中該板體包括一上表面及一下表面，而該側板設置于該板體的該上表面，使得該側板與該板體的該上表面之間形成至少一容置槽;一外殼體，包括多個殼板、至少一液體輸入端、至少一液體輸出端及至少一氣體輸出端，該多個殼板之間具有一容置空間，該層迭設置的板槽設置于該容置空間內，并將該容置空間區(qū)隔成為動空間，其中該液體輸入端、該液體輸出端及該氣體輸出端流體連通該流動空間，且該流體輸入端的上方及下方皆設置該板槽;一加熱單元，位于該流體輸入端及層迭設置的該多個板槽的下方;及一冷卻單元，位于該流體輸入端及層迭設置的該多個板槽的上方。
　　相鄰的該板槽分別連接該外殼體的相面對的兩個殼板，并于該板槽與該殼板之間形成一連通道，且該間隔空間及該連通道形成該流動空間。
　　該側板、該板體的上表面及該外殼體的該殼板形成該容置槽。
　　該液體輸入端為一氨水的輸入口，該氣體輸出端為一氨氣的輸出口，而該液體輸出端則為一水溶液的輸出口。
　　該液體輸入端及該氣體輸出端靠近該外殼體的頂部，而該液體輸出端則靠近該外殼體的底部該板體的該上表面及該下表面分別具有多個凹陷部。該側板與該板體的上表面的該凹陷部形成該容置槽。
　　相鄰的該板槽的該凹陷部之間具有一間隔空間，且該間隔空間的剖面為六邊形、正六邊形、四邊形、多邊形、圓形或圓弧形。
　　氨水處理裝置還包括一氨氣濃度提升裝置，包括：多個第二板槽，以層迭的方式設置，該第二板槽包括一板體及至少一側板，其中該側板與該板體之間形成至少一容置槽;一第二外殼體，包括多個殼板、至少一氣體輸入端、至少一氣體輸出端及至少一液體輸出端，該多個殼板之間具有一容置空間，該層迭設置的第二板槽設置于該容置空間內，并將該容置空間區(qū)隔成為動空間，其中該氣體輸入端、該氣體輸出端及該液體輸出端流體連通該流動空間，其中該第二外殼體上的氣體輸入端連接該外殼體上的氣體輸出端;及一冷卻單元，位于層迭設置的該多個第二板槽的上方。

 　包括至少一輸送泵及至少一管線，該液體輸出端通過該輸送泵連接該管線，其中該管線穿透該外殼體，且部分該管線位于該板槽的該容置槽內。
　　該液體輸入端下方的該加熱單元及該板槽被定義為一加熱區(qū)，而該液體輸入端上方的該冷卻單元及該板槽則被定義為一冷凝區(qū)。
優(yōu)點是：
　　氨水處理裝置可用以處理半導體制程中所產生的氨水，并產生氨氣及水溶液，藉此可將氨氣回收再利用，而處理過程中所產生的水溶液則符合環(huán)保法規(guī)的排放標準，為此不僅可降低半導體制程的成本，亦可降低排放氣體對環(huán)境所造成的污染。