氨氣是半導(dǎo)體制程中重要的材料，以發(fā)光二極管(LED)為例，純氨是制造LED的氮化鎵晶體的重要材料，一般LED廠使用的純氨雖為6N5(99.99995%)以上的等級(jí)，但純氨仍無(wú)法避免含有微量的有機(jī)物，例如丙酮、異丙醇、甲烷、乙烷、丙烷、乙烯、丙烯等。當(dāng)LED廠以MOCVD制程在高溫下(750～1050℃)合成氮化鎵時(shí)，有機(jī)物將會(huì)裂解為烷類、烯類、一氧化碳、二氧化碳、碳粒、烯酮等的衍生雜質(zhì)。
　　在另一方面，每提供100公斤的純氨進(jìn)入LED制程，將會(huì)有80公斤的氨氣被排出制程，而一般排出制程的氨氣濃度約為10%～15%，并包括氫氣、氮?dú)?、甲烷、微量氣體(一氧化碳、二氧化碳、烯酮)及粒狀物(碳粒及金屬鎵)，一般大都將這些排出的氨氣視為廢棄物而不再利用。排出的廢氨氣通常會(huì)被導(dǎo)入水中，并形成氨水排出。
氨水處理裝置，其特征在于，它包括：
　　多個(gè)板槽，以層迭的方式設(shè)置，該板槽包括一板體及至少一側(cè)板，其中，該板體包括一上表面及一下表面，而該側(cè)板設(shè)置于該板體的該上表面，使得該側(cè)板與該板體的該上表面之間形成至少一容置槽;
　　一外殼體，包括多個(gè)殼板、至少一液體輸入端、至少一液體輸出端及至少一氣體輸出端，該多個(gè)殼板之間具有一容置空間，該層迭設(shè)置的板槽設(shè)置于該容置空間內(nèi)，并將該容置空間區(qū)隔成為流動(dòng)空間，其中，該液體輸入端、該液體輸出端及該氣體輸出端流體連通該流動(dòng)空間，且該流體輸入端的上方及下方皆設(shè)置該板槽;

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